Dans la production de composants électroniques, des circuits intégrés, des puces et d'autres industries électroniques, presque tous les processus nécessitent de l'eau pure pour les opérations de nettoyage et la pièce est en contact direct avec de l'eau. D'une part, il peut nettoyer les taches dans le processus, d'autre part, il est nécessaire d'éviter les impuretés dans l'eau de former une pollution secondaire à la pièce. Le concept de «eau ultra-pure de qualité électronique» devient l'une des parties les plus importantes des industries électroniques.
Procédé de technologie traditionnel pour la préparation d'eau de ultrapure de qualité électronique:
Dans le processus de préparation d'eau et de polissage ultra-pur,Résines de polissage de haute qualitéAvec une précision de traitement plus élevée, un niveau de pureté plus élevé et une taille des particules uniformes sont nécessaires pour obtenir la purification de l'eau. Sunresin a développé la technologie \"Jet Granulation \" et utilise la principale ligne de production de résine au monde produite de haute pureté, de grande transformation,résine d'échange de cation de type h grain uniformeetRésine échange d'anion de type ohAvec un coefficient d'uniformité <1.1, pré-mélangé dans une certaine proportion et utilisé pour le traitement de raffinage à la fin du système de préparation d'eau de ultrapure. (Section du processus de polissage raffiné)
Comparaison entre \"Jet Granulation \" Processus et processus traditionnel:
Type de résine poli de Sunresin et indicateurs d'entrée et de sortie de l'eau:
| Produit | Inlet Water Specs | Spécifications d'eau de sortie |
| Seplite® Monojet ™ MB615U | Résistivité électrique>
16mΩ · cm | Résistivité électrique>
18.1mΩ · cm |
| TOC <20PPB | TOC <2PPB |
| Si <5ppb | Si <1ppb |
| SEPLITE® MONOJET ™ MB610U | Résistivité électrique>
17mΩ · cm | Résistivité électrique>
18.2mΩ · cm |
| TOC <15PPB | TOC <2PPB |
| Si <2ppb | Si <0.5ppb |
Avantages de la résine de polissage raffinée de Sunresin:
1. Avec une meilleure dynamique fluide, le système fonctionne avec moins de chute de pression. La résine de polissage de Sunresin utilise des résines de gel anion et de cation avec une taille de particules uniforme et le coefficient d'uniformité est inférieur à 1,1. Lors du remplissage, il évite le remplissage de vides avec de petites particules de résine, augmente l'espace effectif et réduit considérablement la résistance du fluide.
2. Avoir une vitesse d'échange supérieure et une capacité d'échange de travail. Dans les mêmes conditions de traitement, la résine de particules uniformes peut fournir une surface de résine plus grande et le plus petit chemin de diffusion d'ions, améliorant de manière significative la vitesse de la résine de change et la capacité d'échange de travail.
3. Une meilleure résistance mécanique et moins de perte de résine écrasement pendant le fonctionnement.
4. Pureté plus élevée et teneur extrêmement faible d'impressions.
5. Taux de conversion de type H à très élevé de type H, taux de type H> 99%, taux de type OH> 96%.
6. Cycle d'approvisionnement court, mieux répondre aux besoins des clients.
Français
Sunresin Park, No.135, jinye Road, Xi’an Hi-tech Industrial Development Zone, Shaanxi-710076, Chine 
Envoyez-nous un email:
Appelez-nous au: